继三星和美光之后，韩国存储器大厂SK海力士也决定放缓大陆无锡DRAM新厂原订每月高达18万片产能的增产脚步。
SK海力士原本计划于今年的第3季度，全面开始运营其位于中国江苏无锡的C2F DRAM制造工厂，建设完成后将采用产先进的10nm级DRAM技术，产能可达每月18万片12英寸Wafer。近日有知情人士表示，全面运营C2F工厂的计划将被推迟。这也意味着将消除市场目前供大于求的问题，DRAM价格跌势将回稳。
三星、海力士、美光是全球前三大DRAM厂，市占总和超过95%，三家业者扩产放慢，有助市场供给获得节制，据业界人士分析，业者分析，目前三大厂DRAM业务仍处于获利，也是各公司目前最主要的获利来源，若不严控产能，恐将导致获利持续下滑。三大厂先后放慢扩产脚步，最主要还是让市场供给有所节制，驱动市况朝正向发展，以利自家公司DRAM业务维持稳健获利局面。
广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，IT之家所有文章均包含本声明。