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长春光机所 1.5 米扫描干涉场曝光系统顺利通过验收

2020/9/4 0:17:45 来源:IT之家 作者:骑士 责编:骑士
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IT之家9月4日消息 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所官方发布, 8 月 24-25 日,国家自然科学基金委员会信息学部在长春组织专家对国家自然科学基金国家重大科研仪器设备研制专项 “1.5 米扫描干涉场曝光系统”进行了项目验收。

专家组认为,项目组全面完成了项目的研制任务,成功研制出 1.5 米扫描干涉场曝光系统,该仪器的各项工作性能均达到或超过了任务书指标;项目管理文件和技术文档记录全面,内容真实可靠,档案立卷符合规范要求;项目资金使用符合管理办法要求;项目执行期间,围绕单体大尺寸全息光栅制作的一系列核心物理和技术问题开展前沿探索和技术攻关,取得了系列重要研究成果、技术创新和突破。

IT之家了解到,专项研制的仪器设备包括一台 1.5 米扫描干涉场曝光系统及四台制作全息光栅所需的辅助工艺设备。该项目主要面向高能拍瓦激光输出技术、激光惯性约束核聚变研究及高端光刻机产业等战略高科技领域对大面积全息光栅的迫切需求,研制了 1.5 米扫描干涉场曝光系统,其目标是具备以步进扫描多线曝光方式制作 500mm×1500mm 全息光栅的能力。

经过 7 年的攻关,项目组通过解决和突破长程重载工作台超精密定位、曝光干涉场超精密测量及相位锁定等十几项基础问题和关键技术,研制出了拥有制作最大面积 650mm×1700mm 单体无拼缝全息光栅能力的扫描干涉场曝光系统。该项目的顺利实施与验收,标志着我国具备了独立制作米级单体无拼缝全息光栅的能力,打破了由国外长期垄断的局面,对高能激光、可控核聚变、高端光刻等领域的技术与产业推进具有重大的战略意义。

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关键词:光刻激光

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