IT之家 7 月 2 日消息 今日南大光电发布消息，称该公司 ArF 光刻胶产品拿到小批量订单。在 5 月 31 日，江苏南大光电材料股份有限公司公告称，其控股子公司宁波南大光电材料有限公司自主研发的 ArF 光刻胶产品，再次通过了客户认证，其具备 55nm 平台后段金属布线层的工艺要求。
IT之家了解到，ArF 光刻胶材料是半导体制造的关键材料，可以用于 90nm-14nm 甚至 7nm 技术节点的集成电路制造工艺。此前我国国产光刻胶主要集中在中低端产品，但是用于精密工艺的 ArF 光刻胶一直以来被国外厂商垄断。
根据南大光电此前公告，ArF 光刻胶的市场前景好于预期。随着国内 IC 行业的快速发展，自主创新 和国产化步伐的加快，以及先进制程工艺的应用，将大大拉动光刻胶的用量。
广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，IT之家所有文章均包含本声明。