IT之家 6 月 12 日消息,台湾地区《经济日报》消息,业界传出,在英伟达增加 AI 芯片投片量带动下,台积电先进制程产能利用率近期大幅提升,5nm 产能利用率从五成多提高到七至八成左右;7nm 产能利用率也从原本仅三、四成低档,逐步拉升至五成左右。
台积电不评论产能利用率相关动态传闻。根据台积电此前披露的数据,今年首季 5nm 与 7nm 制程贡献业绩共约五成,是最主要的营收来源,随着这两大先进制程产能利用率同步提升,法人看好将对台积电后续营收有相当正面帮助。
业界人士指出,台积电 5nm 制程月产能约 13 万片,之前产能利用率估计一度降到五成多,近期开始加温,目前月投片量估算约 9 万多至 10 万多片,换算产能利用率拉升至七至八成左右,比原先市场预期的回升速度快,主要受惠于大客户英伟达因应市场需求,已对台积电加单,相关投片应该从 7 月会逐渐开出。
7nm 制程方面,台积电相关产能利用率不如 5nm,供应链认为,台积电 7nm 之前几个月产能利用率最低可能降至仅三到四成,但目前已经回到约五成左右水准。
另外,在台积电最先进的 3nm 制程方面,业界人士提到,目前最主要的大客户仍是苹果,主要生产搭载在即将推出的高阶 iPhone 15 新机的最新 A 系列处理器,其他客户可能于后续才会投片。
台积电先前表示,由于客户端对其 3nm 制程的需求超过可供应能力,预期今年 3nm 制程将满载,并从第 3 季开始贡献大量营收,N3E 制程将于下半年量产。
IT之家注意到,台积电董事长刘德音日前表示,今年因为面临产业库存调整期,该公司业绩可能呈现少许负成长,不过前景仍十分光明,已准备好迎接明年下一波很好的成长。
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