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IT之家 3 月 12 日消息，英特尔高级副总裁安妮・凯莱赫（Anne Kelleher）近日出席 SPIE 2024 会议，透露 Intel 14A 工艺节点的性能功耗比（Performance per watt），会比 Intel 18A 提高 15%，而后续增强的 14A-E 工艺在普通 14A 节点的基础上再增加 5%。
凯莱赫表示 Intel 14A 工艺率先使用 High-NA EUV 光刻技术，因此晶体管逻辑密度比 Intel 18A 提高了 20%。
英特尔公司正在积极推进 IDM 2.0 战略，希望在 2030 年之前超越三星，重新夺回代工行业的领先地位，目前总订单规模超过 150 亿美元（IT之家备注：当前约 1077 亿元人民币）。英特尔公司此前发布公告，已经和微软公司达成合作，采用 Intel 18A 工艺为其生产芯片。
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