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IT之家 5 月 15 日消息，台积电张晓强博士于 5 月 14 日出席在阿姆斯特丹举办的技术研讨会，他直言：“ASML 的 High-NA EUV 太贵了，我非常喜欢 High-NA EUV 的能力，但不喜欢它的价格”。
张晓强博士目前担任台积公司业务开发及海外营运办公室的资深副总经理暨副共同营运长，负责公司的业务策略，包括技术蓝图、客户沟通与互动；同时，共同领导海外营运办公室，负责海外营运之组织效能。
IT之家今年 2 月报道，荷兰半导体制造设备巨头 ASML 宣布 High-NA Twinscan EXE 光刻机的价格约为 3.5 亿欧元（IT之家备注：当前约 27.16 亿元人民币）。相比之下，现有的 EUV 光刻机价格约为 1.7 亿欧元（当前约 13.19 亿元人民币）。
英特尔目前已经采购了 ASML 的 High-NA EUV 设备，并且在 4 月 19 日宣布首台设备商用 High NA EUV 光刻机组装。
张晓强博士在采访中表示，台积电 A16 先进工艺节点（预定 2026 年年底前量产）不一定要使用 ASML 的 High-NA EUV 设置，可以继续使用现有的旧款 EUV 设备完成，他表示：“我认为现阶段 EUV 设备有能力有办法支持 A16”。
张晓强博士表示至于何时使用 ASML 的最新技术，将取决于何时最具成本效益，而且还要平衡台积电能达成的技术。
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