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TEL 公司未来五年豪掷 1.5 万亿日元,目标成为全球第一半导体设备制造商

2024/7/1 8:55:18 来源:IT之家 作者:溯波(实习) 责编:溯波

IT之家 7 月 1 日消息,据台媒《经济日报》报道,Tokyo Electron(TEL)宫城子公司总裁神原弘光近日表示,该企业将在 2025~2029 财年投资 1.5 万亿日元(IT之家备注:当前约 679.83 亿元人民币),并新招募一万名员工。

TEL 此番大规模投资意在成为全球第一大半导体设备制造商,1.5 万亿日元的金额也是 TEL 上个五年周期投资额的 1.8 倍

东京电子 LOGO

TEL 财年周期为上一日历年 4 月至当日历年 3 月,其 2024 财年半导体制造设备销售额为 18305 亿日元(当前约 829.62 亿元人民币),目前拥有 18236 名员工。

TEL 宣称其是世界第四大半导体设备制造商,排在 ASML(2023 年营收约合 2171.78 亿元人民币)、应用材料(2023 年营收约合 1930.79 亿元人民币)和泛林之后。

从细分类别来看,TEL 在涂布显影、气体化学蚀刻、扩散炉、批量沉积四类设备上是全球市占榜首,在清洗、等离子蚀刻、金属薄膜沉积、探针台四类设备上也是市占第二。

设备市场份额

其中,TEL 在与 ASML High-NA EUV 光刻机配套的高导向性电浆(等离子)蚀刻设备上处于完全垄断地位,而其探针台也是 CoWoS 和共封装光学 CPO 等先进封装的关键设备。

目前生成式 AI 服务器快速发展,相关逻辑与存储芯片需求提升,带动晶圆厂向 TEL 等设备厂商追加下单,AI 应用相关设备营收已达 TEL 整体销售额三成

此外全球数字转型加速、半导体制程微缩持续推进。这些因素共同作用,给了 TEL 积极扩大营运规模以满足客户需求的信心。

TEL 宫城子公司拥有全球最大的等离子蚀刻设备制造基地,也生产用于三星电子 3nm、台积电 2nm 工艺的涂布显影设备,正着手开发 1nm 级以下级别的涂布显影设备。

东京电子宫城研发中心

▲ TEL 宫城子公司现有研发中心

该子公司还在兴建第三研发中心,预计 2025 年春季完工启用。

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关键词:半导体TEL

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