IT之家 11 月 12 日消息，据韩国产业通商资源部官网新闻稿，半导体光刻胶巨头日本 JSR 今日在韩国忠清北道清州举行 MOR（IT之家注：金属氧化物）光刻胶生产基地的奠基仪式。
该生产基地由 JSR 在韩子公司 JSR Micro Korea 建设，将生产可用于 EUV 光刻的 MOR 光刻胶，目标 2026 年建成投产。这也是韩国境内的首个同类光刻胶工厂。
适用于 EUV 制程的 MOR 光刻胶能够替代低端化学放大光刻胶，在确保超精细工艺的竞争力方面发挥着关键作用。JSR Micro Korea 新工厂有望直接向韩国本土两大半导体制造巨头三星电子、SK 海力士供货，保证光刻胶供应稳定可靠。
JSR 在今年 8 月 30 日的相关新闻稿中还提到，该企业计划今年秋天起在日本关东地区建设一个新的 MOR 研发基地，作为日本三重县四日市现有精密电子开发中心的补充，以强化同全球客户与伙伴的交流合作。
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